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NEO Cコーティング（プラズマCVD)装置
複雑な形状や立体部品への均一な薄膜コーティングを可能にします。複数のソースガスを使用した機能性向上、高周波・直流プラズマの同時使用、プラズマ窒化や浸炭との連続処理が可能です（一部オプション仕様あり）。
●プラズマCVD装置は、豊富な経験を生かした確かなプラズマ制御技術、安定したガス制御法、そして多くのノウハウを応用したオプション機能を設定し、皆様のご要望にお応えします。
●現在プラズマCVD法は、次世代の成膜技術として複雑形状の大型金型や量産小物部品などのセラミックコーティングをはじめとした表面改質、あるいは新素材の研究開発などに様々な産業分野からその可能性と実用化について期待されています。
●低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜技術です。例えば、従来1000℃前後の高温化で行われていた窒化ケイ素やアルミナの析出温度をプラズマの持つ電気化学的エネルギーにより200～300℃程度まで引き下げることを可能にしています。
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