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設備販売
EQUIPMENT
高周波誘導加熱(高周波焼入れ)装置
短時間で安定した加熱による高精度な表面焼入れを可能にします。受託加工部門での60年以上の豊富な経験と独自のノウハウに基づき、高周波設備の近代化や品質の向上、周辺機器などについての多種多様なご要望にお応えしています。
プラズマ窒化装置
プラズマ（イオン）窒化法は、1932年にドイツでB. Berghausによって発明され、1967年頃から商用化が進められました。当社は新時代の熱処理として本技術にいち早く着目し、1973年に国産第一号機を完成、国内初のイオン窒化装置の製造・販売を開始しました。
ラジカル窒化装置
高精度な制御により均一な処理温度を実現し、化合物層のない窒化を可能にします。処理後の磨きが不要なため、工数を削減できます。処理後の寸法変化や歪みが少なく、耐摩耗性や耐腐食性も向上します。部分的な窒化防止も容易で、多様な金型や部品に適応します。
NEO Cコーティング（プラズマCVD)装置
複雑な形状や立体部品への均一な薄膜コーティングを可能にします。複数のソースガスを使用した機能性向上、高周波・直流プラズマの同時使用、プラズマ窒化や浸炭との連続処理が可能です（一部オプション仕様あり）。
プラズマ浸炭装置
金属材料表面に炭化物を形成し、機械的強度を向上させるプラズマ熱処理装置です。当社が開発したプラズマ浸炭法は、クリーンな作業環境の中で従来のガス浸炭よりも短時間で高精度の安定した品質が得られ「高濃度浸炭」や「難浸炭材への応用」など優れた特徴が認められています。
DCプラズマドライブ装置
操作簡単・小型化・軽量を可能にしたプラズマ用直流電源です。直流放電をパルス化し、放電時に発生し悪影響を及ぼすアーク放電を完全に遮断できます。直流プラズマを用いた薄膜用スパッタ・プラズマCVD・プラズマ熱処理等全ての処理の電源としてご利用いただけます。
